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Computational Lithography - Wiley Series in Pure and Applied Optics Xu Ma
Computational Lithography - Wiley Series in Pure and Applied Optics
Xu Ma
This is the first book to address the optimization of resolution enhancement techniques in optical lithography. It provides an in-depth discussion of RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.
226 pages, Illustrations
| Medios de comunicación | Libros Hardcover Book (Libro con lomo y cubierta duros) |
| Publicado | 6 de agosto de 2010 |
| ISBN13 | 9780470596975 |
| Editores | John Wiley & Sons Inc |
| Páginas | 256 |
| Dimensiones | 160 × 241 × 18 mm · 508 g |
| Lengua | Inglés |
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