Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications - Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) - Libros - William Andrew Publishing - 9780815514329 - 31 de diciembre de 1999
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Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired))
Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications 2.º edición

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Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.

506 pages

Medios de comunicación Libros     Hardcover Book   (Libro con lomo y cubierta duros)
Publicado 31 de diciembre de 1999
ISBN13 9780815514329
Editores William Andrew Publishing
Páginas 506
Dimensiones 164 × 237 × 40 mm   ·   843 g
Lengua Inglés  

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