Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective - Press Monographs - Andreas Erdmann - Libros - SPIE Press - 9781510639010 - 30 de abril de 2021
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Andreas Erdmann
Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective - Press Monographs

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Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.

374 pages

Medios de comunicación Libros     Paperback Book   (Libro con tapa blanda y lomo encolado)
Publicado 30 de abril de 2021
ISBN13 9781510639010
Editores SPIE Press
Páginas 374
Dimensiones 255 × 178 × 24 mm   ·   682 g

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