Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films - Progress in Numerical Simulation for Microelectronics - Chris R. Kleijn - Libros - Springer Basel - 9783034877435 - 20 de noviembre de 2013
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films - Progress in Numerical Simulation for Microelectronics Softcover reprint of the original 1st ed. 1993 edition

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Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence reduce the cost and improve the quality of the reactors.


140 pages, black & white illustrations

Medios de comunicación Libros     Paperback Book   (Libro con tapa blanda y lomo encolado)
Publicado 20 de noviembre de 2013
ISBN13 9783034877435
Editores Springer Basel
Páginas 139
Dimensiones 152 × 229 × 7 mm   ·   195 g
Lengua Alemán  

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