Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering - W. N. G. Hitchon - Libros - Cambridge University Press - 9780521018005 - 29 de septiembre de 2005
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W. N. G. Hitchon
Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering

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Self-contained book providing an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. Presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. Suitable as a graduate-level textbook, and will also be a useful reference for practising engineers in the semiconductor industry.

232 pages, 31 b/w illus. 2 tables 33 exercises

Medios de comunicación Libros     Paperback Book   (Libro con tapa blanda y lomo encolado)
Publicado 29 de septiembre de 2005
ISBN13 9780521018005
Editores Cambridge University Press
Páginas 232
Dimensiones 178 × 254 × 15 mm   ·   440 g
Lengua Inglés  
Editor de series Ahmad, Haroon
Editor de series Broers, Alec
Editor de series Pepper, Michael

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